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    HALO系列“二合一”PECVD

    HALO系列“二合一”PECVD

    产品特点 1.石墨舟电极技术：前电极面接触，可定期更换清洗电极块，尾电极炉管外可调，加大电极尺寸及优化电极材料，良好解决高频报警问题；
    2.快速降温炉体：采用最新专利技术，使炉体温度可以快速降到所需温度，降温速率提升25%以上，明显提升炉管内温度均匀性；
    3.专利储舟位并行散热方式：提升降温效果，缩短降温时间15%以上，同时避开底部从操作台前面进气，提高操作台内部洁净度；
    4.石英管辅助吊装工具，大大降低安装和维修更换石英管的难度；
    5.膜的致密性高于间接等离子体；
    6.比ALD有更好的钝化效果。

    产品应用

    项目

    技术指标

    成膜种类

    AlO,SiO,SiON,SiN,SiC

    装片量

    768片/批(182mm),616片/批(210mm),500片/批(230mm)

    氧化铝膜厚均匀性

    片内≤6%片间≤6%批间≤5%(182片)

    氧化铝折射率

    1.65(±0.05)

    UP-TIME

    ≥98%

    工作温度范围

    100~600℃

    温度控制

    9点控温，内外双模控制

    升温方式

    自动斜率升温及快速恒温功能

    降温方式

    最新专利技术，9温区分段控制主动降温炉体

    恒温区精度及长度

    ±2°C/3200mm(500°C)

    单点温度稳定度

    <±1°C/4h(500°C)

    升温时间

    RT→450℃≤45min

    温度控制

    双模精确控制

    系统极限真空度

    <3Pa

    系统漏气率

    停泵关阀后压力升率<1Pa/min

    压力控制方式

    快速调整全自动闭环

    工艺控制方式

    工艺过程全自动控制，多重安全连锁报警

    人机交互界面

    LCD显示、触摸操作、工艺编辑、在线监控、权限管理、班组管理、组网功能

    MES/CCRM

    具有


    产品参数

    适用于高效晶体硅PERC电池工艺过程中生长致密的氧化铝等背钝化薄膜材料，具有多种复合膜连续生长的特点。

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